在你的案例中添加一个“MLC尖桩围栏物理QA”对象。

收购尖桩围栏图像-要么从文件读取它或直接扫描它。

图像配准

对于自动图像配准，选择基准工具并在尖桩围栏图像标记基准位置如下所示。任何数量的基准都可以用来确定等心。然而，确定x、y位移和旋转的最小数量是3个基准。

提示:移动基准标记，选中它并用鼠标指针或使用Ctrl+方向键拖动它。选中某基准标记，按“Del”键删除该基准标记。

要更改基准类型，请打开基准工具并选择所需的类型。

一般基准用于拟合等中心的a轴和y轴，水平基准仅拟合y坐标。

当所有基准都标记好后，在案例树中选择工具“MLC尖桩围栏物理QA”。

等中心点(蓝色/黑色虚线)自动拟合到标记的基准，如下所示。

提示:Isocenter可以使用基准钳工工具进行其他选项的安装

提示:为了使等中心线更明显，关闭最大对比度调平，如下所示。

波束线检测

尖桩围栏分析工具自动检测梁线，并将检测到的梁线点显示在分析路径线上，如下所示的中心部分。光束线检测使用选定的感兴趣区域(绿色虚线矩形)来分析图像数据。选择按钮，使该感兴趣的区域可编辑，并单击并拖动边界线，以便只覆盖横梁线，如下面的屏幕截图所示。

右侧的波束轮廓标签显示了沿所选分析路径线和检测到的极值点的轮廓。

中间部分包括以下项目:

右边的“光束剖面”选项卡显示了沿分析路径线和检测到的极值的剖面。的按钮可更改检测参数。默认设置已针对ebb3胶片的使用进行优化。最重要的参数如下。

• 分析颜色通道:用于生成配置文件的信号。红色通道对EBT薄膜最敏感。红/蓝比值补偿了EBT薄膜厚度的变化。
• 光束比背景暗:光束线用轮廓线的最小值来描述，否则用极大值来描述。
• 梁对齐:允许同步光束线(角度和距离)。
• 检测模式:沿剖面曲线检测极值的方法。
• 分析线数:更多的线稳定的结果，但消耗更多的计算机性能
• 分析路径为:更大的范围提供更平滑的轮廓。路径范围不能超过可见光束线区域。

在中心配准图像下方显示光束线统计信息，包括检测光束线的最小、平均和最大距离，以及斜角的最小、平均和最大倾角。

多层陶瓷设计

选择MLC的设计按钮上下文菜单如下所示:

本例使用瓦里安千禧80 MLC。

如果目标MLC设计不可用，请使用“手动创建MLC模板”输入新数据。

当选择MLC设计时，它将显示为中心部分的叠加。

使用按钮调整图像相对于MLC的位置，使胶片上的叶子边界与重叠的MLC叶子边界对齐(实线蓝，虚线蓝为叶子中心线)。

叶分析

叶子中心线周围的空间用于创建配置文件，以检测叶子开口为极值。选择“叶分析”选项卡开始分析。

“叶分析”选项卡的上部显示了所选叶和梁范围(底部一行)沿中心线的轮廓。人们只能选择位于中心部分(绿色虚线矩形)和检测光束(红色数字标签)中感兴趣区域内的叶。

叶开口被确定为轮廓与阈值的交集(上图中的红线)。该检测阈值可以通过按钮进行调整。

由于测量的失真以及测量实际上决定了剂量当量值，可使扫描剖面的形状产生偏差，剖面值可能会发生变化。为了解决这种偏差，FilmQA Pro提供了以下配置文件规范化选项:

将全局最小值和最大值归一为0和1:每个叶中心轮廓的全局极值归一化为0和1，以考虑图像上的(小)漂移。

将所有局部极小值和极大值均为0和1:对每个光束和叶片极值对进行归一化，并对所有剖面部分进行均衡，所有的最大值都在1，所有的最小值都在0。

在最小的局部最小值和最大值处截断并归一化为0和1:在最高最小值处截断概要文件的下部，在最低最大值处截断概要文件的上部，将结果概要文件归一化为0和1。这种方法在叶片开口变化大，即叶片开口之间的剂量变化大的情况下非常有利。

使用按钮，为概要文件选择规范化模式。

相对分析叶宽范围(%):叶中心周围平均区域相对于用于生成剖面的叶宽的宽度。

当剖面数据或分析方法发生变化时，FilmQA Pro会计算所选光束的叶片张开宽度值和叶片指数范围，如下图所示。

所描绘的开口的颜色取决于特定叶片开口的宽度和偏置。可以使用图表的上下文菜单(右击图表)分配颜色变化的阈值。

报告

当分析完成时，选择report选项卡来总结记录的结果。

启用应该包含在报告中的项目，并在“页脚文本”框中添加识别测试的信息。使用按钮，将报告另存为文件(例如PDF文件)。